उत्पत्ति के प्लेस:
अनहुई, चीन
ब्रांड नाम:
Wayeal
प्रमाणन:
ISO, CE
मॉडल संख्या:
एलसी3200
LC3200 HPLC तरल गुणसूत्र उच्च प्रदर्शन तरल गुणसूत्र
उच्च दक्षता वाले तरल क्रोमैटोग्राफी उपकरण का परिचय
उच्च प्रदर्शन तरल क्रोमैटोग्राफ (एचपीएलसी) उच्च प्रदर्शन तरल क्रोमैटोग्राफी के सिद्धांत पर आधारित एक उपकरण है,जिसका प्रयोग मुख्यतः कम अस्थिर और ऊष्मा-अस्थिर कार्बनिक यौगिकों का विश्लेषण करने के लिए किया जाता है जिनके उबलने का बिंदु उच्च होता है और जिनका आणविक भार बड़ा होता हैइसमें जलाशय, पंप, नमूना इंजेक्टर, क्रोमैटोग्राफिक कॉलम, डिटेक्टर और रिकॉर्डर शामिल हैं।
उच्च दक्षता वाले तरल क्रोमैटोग्राफी उपकरण की विशेषताएं
उच्च दबाव पंप
अनुकूलित उच्च परिशुद्धता वाले ढाल विधि जो अत्यधिक उच्च ढाल दोहराव की गारंटी देते हैं।
पेटेंट दो चरण निलंबन प्रौद्योगिकी उच्च दबाव प्रवाह पंप, प्रणाली के सेवा जीवन में सुधार
उच्च दबाव पंपों और नमूना लेने वाले सफाई द्रव के लिए अंतर्निहित डीगैसर
ऑटोसैंपलर
पूरी तरह सेएल्फ द्वारा विकसित ऑटोसैम्पलर।ध्रुवीय निर्देशांक डिजाइन और विभिन्न इंजेक्शन विधियां विभिन्न ग्राहकों की जरूरतों को पूरा करती हैं।और एक बुद्धिमान प्रकाश व्यवस्था मोड आसान अवलोकन के लिए वैकल्पिक है.
स्तंभ ओवन
हीटिंग, कूलिंग, दो तरफा एयर बाथ तापमान नियंत्रण, कोमल तापमान नियंत्रण, समान हीटिंग, उच्च स्थिरता।
अधिकांश उपयोगकर्ताओं की आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए 2-तरफा 250 मिमी क्रोमैटोग्राफिक कॉलम + गार्ड कॉलम स्थापना स्थिति प्रदान करें।
यूवी डिटेक्टर
उच्च परिशुद्धता प्रतिबिंबित लेंस, 1800 लाइन ब्लेज़ ग्रिड, अत्यंत कम आवारा प्रकाश और महान रैखिक रेंज सुनिश्चित करने के लिए।
कार्यस्थान
विभिन्न पैमाने के उपयोगकर्ताओं की जरूरतों को पूरा करने के लिए स्थानीय तैनाती और नेटवर्क तैनाती कार्यों के साथ
उच्च प्रदर्शन तरल गुणसूत्र विज्ञान उपकरण के तकनीकी डेटा
| निर्माता: | वेल |
| उत्पाद का नामः | तरल क्रोमैटोग्राफी उपकरण |
| कार्य शक्ति आपूर्ति | 220 वी, 50 हर्ट्ज |
| परिवेश का तापमान | 10~40°C |
| सापेक्ष आर्द्रता | 20~85% |
| गुणात्मक दोहराव | ≤0.2% |
| मात्रात्मक दोहराव | ≤0.4% |
| उच्च दबाव निरंतर प्रवाह पंप | |
| प्रवाह दर सीमा | 0.001~10,000 मिलीलीटर/मिनट |
| कदम रखना | 0.001mL/मिनट |
| दबाव सीमा | 0~42MPa |
| दबाव धड़कन | 0.1 एमपीए |
| प्रवाह दर सेट त्रुटि | ±0.2% |
| प्रवाह दर स्थिरता | आरएसडी≤0.06% |
| ढलान त्रुटि | ± 1% |
| स्तंभ ओवन | |
| तापमान नियंत्रण सीमा | 4~85°C |
| तापमान स्थिरता | ±0.02°C |
| तापमान सेटिंग रिज़ॉल्यूशन | 0.1°C |
| ऑटोसैंपलर | |
| इंजेक्शन वॉल्यूम दोहराव | <0.5% आरएसडी |
| रैखिकता | >0.9999 |
| क्रॉस-कंटॉमिनेशन | <0.002% |
| इंजेक्शन वॉल्यूम सटीकता त्रुटि | ± 1% |
| नमूना स्थितियाँ | 120 |
| इंजेक्शन वॉल्यूम | 1~100μL |
| यूवी डिटेक्टर | |
| आधारभूत शोर | ≤2.0*10-6औ |
| आधार रेखा विचलन | ≤1*10-5औ/घंटा |
| मिनी डिटेक्शन एकाग्रता | ≤3.0*10-9g/mL (नाफ्टालीन/मेथनॉल) |
| स्पेक्ट्रल रेंज | 188~900nm |
| तरंगदैर्ध्य त्रुटि | ≤±0.1nm |
| तरंग दैर्ध्य दोहराव | ≤±0.1nm |
| रैखिकता सीमा | ≥103 |
| डीए डिटेक्टर | |
| आधारभूत शोर | ≤4*10-5औ |
| आधार रेखा विचलन | ≤3*10-5औ/घंटा |
| मिनी डिटेक्शन एकाग्रता | ≤2*10-8जी/एमएल |
| स्पेक्ट्रल रेंज | 190~800nm |
| तरंगदैर्ध्य त्रुटि | ≤±0.1nm |
| तरंग दैर्ध्य दोहराव | ≤±0.1nm |
| रैखिकता सीमा | ≥ 104 |
| ईएलएस डिटेक्टर | |
| आधारभूत शोर | ≤ 0.0037mV |
| आधार रेखा विचलन | ≤ 0.0026mV/30min |
| वाष्पीकरण गैस प्रवाह सीमा | (0 ~ 3) एसएलएम |
| परमाणुकरण तापमान सीमा | कमरे का तापमान ~ 90°C |
| वाष्पीकरण तापमान सीमा | कमरे का तापमान 110°C |
| डिटेक्शन कक्ष तापमान सीमा | कमरे का तापमान 60°C |
| इनपुट वायु दबाव | (4 ~ 7) बार |
| FL डिटेक्टर | |
| आधारभूत शोर | ≤ 5×10-6FU |
| आधार रेखा विचलन | ≤ 2 × 10-5FU/30min |
| स्पेक्ट्रल रेंज | (200 ~ 650) एनएम |
| तरंगदैर्ध्य त्रुटि | ± 0.1 एनएम |
| रैखिकता सीमा | ≥ 104 |
| आरआई डिटेक्टर | |
| पता लगाने की सीमा | 0.25 ~ 512 μRIU |
| रैखिकता सीमा | ≥ 600 μRIU |
| प्रतिक्रिया समय | 0.1, 0.25, 0.5, 1, 1.5, 2, 3, 6 सेकंड; |
| सेल वॉल्यूम | 8μL |
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