उत्पत्ति के प्लेस:
अनहुई, चीन
ब्रांड नाम:
Wayeal
प्रमाणन:
ISO, CE
मॉडल संख्या:
LC3200
एचपीएलसी उच्च प्रदर्शन तरल गुणसूत्र प्रणाली के लिए द्विआधारी उच्च दबाव ढाल प्रणाली
तरल क्रोमैटोग्राफी यंत्र का परिचय
उच्च-प्रदर्शन तरल क्रोमैटोग्राफी (एचपीएलसी; पूर्व में उच्च-दबाव तरल क्रोमैटोग्राफी के रूप में जाना जाता है), विश्लेषणात्मक रसायन विज्ञान में एक तकनीक है जिसका उपयोग अलग करने, पहचानने,और मिश्रण में प्रत्येक घटक की मात्रा निर्धारित करें.
यह एक विलायक को पारित करने के लिए एक डीगैस-इकाई और दो पंपों पर निर्भर करता है जिसे एक मोबाइल चरण कहा जाता है (जैसे पानी, एसीटोनिट्राइल, मेथनॉल आदि) ।) और एक ठोस अवशोषक सामग्री से भरा एक स्तंभ के माध्यम से नमूना मिश्रण, आम तौर पर ठोस कणों (जैसे सिलिका, पॉलिमर, आदि) से बनी एक दानेदार सामग्री है। नमूना में प्रत्येक घटक अनुशोषक सामग्री के साथ थोड़ा अलग बातचीत करता है,विभिन्न घटकों के लिए अलग-अलग प्रवाह दरों का कारण बनता है और घटकों को अलग करने के लिए नेतृत्व करता है क्योंकि वे कॉलम से बाहर बहते हैं.
तरल क्रोमैटोग्राफी यंत्र के मापदंड
| निर्माता: | वेल |
| उत्पाद का नामः | तरल क्रोमैटोग्राफी उपकरण |
| कार्य शक्ति आपूर्ति | 220 वी, 50 हर्ट्ज |
| परिवेश का तापमान | 10~40°C |
| सापेक्ष आर्द्रता | 20~85% |
| गुणात्मक दोहराव | ≤0.2% |
| मात्रात्मक दोहराव | ≤0.4% |
| उच्च दबाव निरंतर प्रवाह पंप | |
| प्रवाह दर सीमा | 0.001~10,000 मिलीलीटर/मिनट |
| कदम रखना | 0.001mL/मिनट |
| दबाव सीमा | 0~42MPa |
| दबाव धड़कन | 0.1 एमपीए |
| प्रवाह दर सेट त्रुटि | ±0.2% |
| प्रवाह दर स्थिरता | आरएसडी≤0.06% |
| ढलान त्रुटि | ± 1% |
| स्तंभ ओवन | |
| तापमान नियंत्रण सीमा | 4~85°C |
| तापमान स्थिरता | ±0.02°C |
| तापमान सेटिंग रिज़ॉल्यूशन | 0.1°C |
| ऑटोसैंपलर | |
| इंजेक्शन वॉल्यूम दोहराव | <0.5% आरएसडी |
| रैखिकता | >0.9999 |
| क्रॉस-कंटॉमिनेशन | <0.002% |
| इंजेक्शन वॉल्यूम सटीकता त्रुटि | ± 1% |
| नमूना स्थितियाँ | 120 |
| इंजेक्शन वॉल्यूम | 1~100μL |
| यूवी डिटेक्टर | |
| आधारभूत शोर | ≤2.0*10-6औ |
| आधार रेखा विचलन | ≤1*10-5औ/घंटा |
| मिनी डिटेक्शन एकाग्रता | ≤3.0*10-9g/mL (नाफ्टालीन/मेथनॉल) |
| स्पेक्ट्रल रेंज | 188~900nm |
| तरंगदैर्ध्य त्रुटि | ≤±0.1nm |
| तरंग दैर्ध्य दोहराव | ≤±0.1nm |
| रैखिकता सीमा | ≥103 |
| डीए डिटेक्टर | |
| आधारभूत शोर | ≤4*10-5औ |
| आधार रेखा विचलन | ≤3*10-5औ/घंटा |
| मिनी डिटेक्शन एकाग्रता | ≤2*10-8जी/एमएल |
| स्पेक्ट्रल रेंज | 190~800nm |
| तरंगदैर्ध्य त्रुटि | ≤±0.1nm |
| तरंग दैर्ध्य दोहराव | ≤±0.1nm |
| रैखिकता सीमा | ≥ 104 |
| ईएलएस डिटेक्टर | |
| आधारभूत शोर | ≤ 0.0037mV |
| आधार रेखा विचलन | ≤ 0.0026mV/30min |
| वाष्पीकरण गैस प्रवाह सीमा | (0 ~ 3) एसएलएम |
| परमाणुकरण तापमान सीमा | कमरे का तापमान ~ 90°C |
| वाष्पीकरण तापमान सीमा | कमरे का तापमान 110°C |
| डिटेक्शन कक्ष तापमान सीमा | कमरे का तापमान 60°C |
| इनपुट वायु दबाव | (4 ~ 7) बार |
| FL डिटेक्टर | |
| आधारभूत शोर | ≤ 5×10-6FU |
| आधार रेखा विचलन | ≤ 2 × 10-5FU/30min |
| स्पेक्ट्रल रेंज | (200 ~ 650) एनएम |
| तरंगदैर्ध्य त्रुटि | ± 0.1 एनएम |
| रैखिकता सीमा | ≥ 104 |
| आरआई डिटेक्टर | |
| पता लगाने की सीमा | 0.25 ~ 512 μRIU |
| रैखिकता सीमा | ≥ 600 μRIU |
| प्रतिक्रिया समय | 0.1, 0.25, 0.5, 1, 1.5, 2, 3, 6 सेकंड; |
| सेल वॉल्यूम | 8μL |
हीलियम लीक डिटेक्टर का अनुप्रयोग
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