उत्पत्ति के प्लेस:
अनहुई, चीन
ब्रांड नाम:
Wayeal
प्रमाणन:
ISO, CE
मॉडल संख्या:
एलसी3200एस
45MPa एचपीएलसी क्रोमैटोग्राफी उपकरण मशीन उच्च प्रदर्शन तरल क्रोमैटोग्राफी प्रणाली यूवी डिटेक्टर के साथ
उच्च प्रदर्शन तरल क्रोमैटोग्राफी उपकरण का परिचय
उच्च प्रदर्शन तरल क्रोमैटोग्राफी (एचपीएलसी) का विकास 1960 के दशक के अंत और 1970 के दशक की शुरुआत में हुआ था। आज, एचपीएलसी यौगिकों की एक विस्तृत श्रृंखला के विश्लेषण के लिए पसंदीदा तरीका बन गया है। इसका उपयोग विभिन्न प्रकार के अनुप्रयोगों में पृथक्करण और शुद्धिकरण के लिए किया जाता है, जिसमें फार्मास्युटिकल, बायोटेक्नोलॉजी, पर्यावरण, पॉलिमर और खाद्य उद्योग शामिल हैं। गैस क्रोमैटोग्राफी पर इसका मुख्य लाभ यह है कि विश्लेषक को वाष्पशील होने की आवश्यकता नहीं है, इसलिए बड़े अणु एचपीएलसी विश्लेषण के लिए उपयुक्त हैं।
उच्च प्रदर्शन तरल क्रोमैटोग्राफी उपकरण का डेटा
| निर्माता: | वेयल |
| उत्पाद का नाम: | तरल क्रोमैटोग्राफी उपकरण |
| कार्यशील बिजली की आपूर्ति | 220V, 50Hz |
| परिवेश का तापमान | 10~40°C |
| सापेक्ष आर्द्रता | 20~85% |
| गुणात्मक पुनरावृत्ति | ≤0.2% |
| मात्रात्मक पुनरावृत्ति | ≤0.4% |
| उच्च दबाव स्थिर प्रवाह पंप | |
| प्रवाह दर सीमा | 0.001~10.000mL/min |
| सेटिंग चरण | 0.001mL/min |
| दबाव सीमा | 0~45MPa |
| दबाव स्पंदन | 0.1MPa |
| प्रवाह दर सेट त्रुटि | ±0.2% |
| प्रवाह दर स्थिरता | RSD≤0.06% |
| ढाल त्रुटि | ±1% |
| कॉलम ओवन | |
| तापमान नियंत्रण सीमा | 4~85°C |
| तापमान स्थिरता | ±0.02°C |
| तापमान सेटिंग रिज़ॉल्यूशन | 0.1°C |
| ऑटोसैंपलर | |
| इंजेक्शन वॉल्यूम पुनरावृत्ति | <0.5%RSD |
| रैखिकता | >0.9999 |
| क्रॉस संदूषण | <0.002% |
| इंजेक्शन वॉल्यूम सटीकता त्रुटि | ±1% |
| नमूना स्थान | 120 |
| इंजेक्शन वॉल्यूम | 1~100μL |
| यूवी डिटेक्टर | |
| बेसलाइन शोर | ≤2.0*10-6Au |
| बेसलाइन बहाव | ≤1*10-5Au/h |
| न्यूनतम पहचान एकाग्रता | ≤3.0*10-9g/mL (नेफ़थलीन/मेथनॉल) |
| स्पेक्ट्रल रेंज | 188~900nm |
| तरंग दैर्ध्य त्रुटि | ≤±0.1nm |
| तरंग दैर्ध्य पुनरावृत्ति | ≤±0.1nm |
| रैखिकता सीमा | ≥103 |
| डीए डिटेक्टर | |
| बेसलाइन शोर | ≤4*10-5Au |
| बेसलाइन बहाव | ≤3*10-5Au/h |
| न्यूनतम पहचान एकाग्रता | ≤2*10-8g/mL |
| स्पेक्ट्रल रेंज | 190~800nm |
| तरंग दैर्ध्य त्रुटि | ≤±0.1nm |
| तरंग दैर्ध्य पुनरावृत्ति | ≤±0.1nm |
| रैखिकता सीमा | ≥ 104 |
| ईएलएस डिटेक्टर | |
| बेसलाइन शोर | ≤ 0.0037mV |
| बेसलाइन बहाव | ≤ 0.0026mV/30min |
| वाष्पीकरण गैस प्रवाह सीमा | (0 ~ 3) SLM |
| परमाणुकरण तापमान सीमा | कमरे का तापमान ~ 90°C |
| वाष्पीकरण तापमान सीमा | कमरे का तापमान~110°C |
| पहचान कक्ष तापमान सीमा | कमरे का तापमान~60°C |
| इनपुट वायु दबाव | (4 ~ 7) बार |
| एफएल डिटेक्टर | |
| बेसलाइन शोर | ≤ 5×10-6FU |
| बेसलाइन बहाव | ≤ 2 × 10-5 FU/30min |
| स्पेक्ट्रल रेंज | (200 ~ 650) nm |
| तरंग दैर्ध्य त्रुटि | ± 0.1 nm |
| रैखिकता सीमा | ≥ 104 |
| आरआई डिटेक्टर | |
| पहचान सीमा | 0.25 ~ 512 μRIU |
| रैखिकता सीमा | ≥ 600 μRIU |
| प्रतिक्रिया समय | 0.1, 0.25, 0.5, 1, 1.5, 2, 3, 6 सेकंड; |
| सेल वॉल्यूम | 8μL |
उच्च प्रदर्शन तरल क्रोमैटोग्राफी उपकरण के अनुप्रयोग
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